high – NA – machines
High-NA-machines de 2e EUV generatie. ASML introduceert een nieuwe generatie en borduurt zo voort op zijn succesverhaal met de euv-machines. Zo klein als de lijntjes die met high-NA kunnen worden gemaakt, zo immens groot zijn andere getallen die de nieuwe technologie van ASML kenmerken. Zijn er voor het transport van een euv-machine naar de klant drie Boeing 747’s nodig, voor high-NA zijn dat er 7.
Nieuwe ontwikkeling
In Rotterdam heeft Nearfield in samenwerking met TNO een machine ontwikkeld die op dit high-NA-niveau de kwaliteit controleert. In een door HIGHCARE geleverde cleanroom worden deze unieke machines onder speciale luchtcondities in bedrijf gesteld en voorbereid op transport.
<CLEANROOM ontwerpen en bouwen>
<NEARFIELD Rotterdam>
ASML
Over de ontwikkeling van de eerste euv heeft ASML twintig jaar gedaan, en er zijn miljarden onderzoeksgeld in dit project gestopt. Pas in 2018 waren de machines zo ver doorontwikkeld dat ze konden worden ingezet voor de productie van chips. High-NA komt nu snel achter de euv-machines aan.
De ontwikkeling van euv was complex omdat de technologie consequenties had voor het systeem in en rondom de machine. Bij euv wordt gebruik gemaakt van een nieuw soort lichtbron – extreem ultravioletlicht, dat wordt opgewekt door met een laser op druppeltjes tin te schieten- en daarvoor moest de wafer waar het licht op valt worden aangepast, net als het zogenoemde masker, dat het lijnenpatroon op de chip bepaalt.
Lichtbron
Met high-NA blijft euv de lichtbron. ASML veranderde de openingshoek van de spiegels die het licht vangen, de ‘numerieke apertuur’ (NA). Met het vergroten van de openingshoek- van 0,33 naar 0,55 – wordt het beeld scherper, en de belichte lijntjes op de chip een slag kleiner (3 nanometer).
Bij een grotere invalshoek wordt het beeld diffuser, en dat vraagt om aanpassing van de spiegels. Spiegels worden door de Duitse toeleverancier Zeiss tot op atomair niveau glad geslepen.
De high-NA-machines bouwen voort op euv en dat maakt de overgang minder groot
<CLEANROOM ontwerpen en bouwen>
Euv is strategisch zo belangrijk dat de Amerikaanse overheid vindt dat deze machines niet in Chinese handen mogen belanden. Maar terwijl het geopolitieke steekspel rondom deze machines nog in volle gang is, is ASML zelf alweer bijna klaar om de opvolger van euv te lanceren. In 2022 worden naar verwachting de eerste zogeheten high-NA-machines geleverd.
<NEARFIELD checks wafers in a HIGHCARE Cleanroom>
